外觀：密閉槽體+控制面板，用于精密去除鏡片、透鏡表面污漬。
應(yīng)用：實驗室、醫(yī)療器械、光學元件制造。
激光清洗設(shè)備?
外觀：集成激光頭與精密運動平臺，無接觸清除涂層或污染物。
應(yīng)用：航天器件、半導(dǎo)體晶圓清潔。
等離子清洗機?
外觀：真空腔體+氣體輸入裝置，通過等離子體處理表面微塵。
應(yīng)用：電子元件、光學鍍膜前處理。
- 內(nèi)容詳情
設(shè)備
原理：利用高頻超聲波在液體中產(chǎn)生的空化效應(yīng)，形成微小氣泡沖擊污染物，實現(xiàn)無死角清潔。
特點：適用于批量清洗小型精密元件（如鏡片、晶圓），但對表面復(fù)雜結(jié)構(gòu)或有膠合層的元件需謹慎。
流程：放入清洗槽→加入專用清洗液→超聲波處理→漂洗→干燥。
功能特征
模塊化設(shè)計
1. 可更換清洗槽、適配不同夾具（如晶圓夾盤、鏡片治具）。
2. 支持擴展功能（如清洗+烘干一體化）。
高效干燥系統(tǒng)
1. 熱風循環(huán)、氮氣吹干或真空干燥，確保無水漬殘留。
2. 干燥效率：鏡片表面濕度≤50ppm（百萬分之一）。
光學清洗設(shè)備三種不同技術(shù)類型對比
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特征 |
超聲波清洗機 |
激光清洗機 |
等離子清洗機 |
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清洗方式 |
液體空化作用 |
高能激光脈沖 |
等離子體化學反應(yīng) |
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適用對象 |
小型精密元件（鏡片、晶圓） |
脆性材料、復(fù)雜形狀表面 |
金屬、陶瓷、高分子材料 |
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優(yōu)勢 |
成本低、批量處理 |
無接觸、超精準 |
表面改性+清潔一體化 |
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典型應(yīng)用 |
實驗室、醫(yī)療器械清洗 |
半導(dǎo)體、航天器件 |
電子封裝、光學鍍膜前處理 |
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